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安力斯UV/O3/H2O2深度氧化技術原理:
UV/O3/H2O2是常見的一種后置高級氧化工藝,此方法利用UV發出的高強度高能量紫外線,激發H2O2及O3產生具有*氧化性的羥基自由基,羥基自由基可將難降解有機物質氧化,發生斷鏈、開環等多種反應,能有效降低COD,同時具有消毒的效果,且不會造成二次污染,也不需要后續處理。
安力斯UV/O3/H2O2氧化系統閉環控制:
1.臭氧控制系統:臭氧在線濃度監測、水中臭氧濃度監測、尾氣殘余臭氧濃度監測系統
2.UV控制系統:根據臭氧、雙氧水投加濃度,實時調節系統UV強度
3. H2O2控制系統:通過計量泵及流量調配系統實現對雙氧水的精確投加,避免殘余H2O2對出水COD的干擾。
安力斯UV/O3/H2O2氧化系統設計:
1.UV光催化模塊
2. H2O2間及投加系統
3.臭氧發生及投加系統
4.高級氧化反應池
5.在線監測系統